電鍍處理過程中（zhōng）所用的設備主要（yào）有各類固定槽、滾鍍槽、掛具、吊籃等。鍍後處（chù）理是對零件進（jìn）行拋（pāo）光、出光、鈍化（huà）、著色、幹燥、封閉、去氫等工作（zuò），龍門式掛鍍（dù）生產線，根據需要選用其中一種或數種工序使零件符合質量要求。鍍後處理常用設備（bèi）主要有磨、拋（pāo）光機，各類固（gù）定槽。全自動（dòng）環形垂直升降電鍍流（liú）水線
工藝（yì）要求
1. 鍍層與基體金屬，鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2. 鍍層應結晶細致，掛（guà）鍍生產（chǎn）線研發，平整，厚度（dù）均（jun1）勻。
3. 鍍層應具有規定的厚（hòu）度和盡可能少的孔隙（xì）。
4. 鍍層應具有規定的各項指標，如光亮度，硬（yìng）度，導電性等（děng）。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水（shuǐ）處理設備最.大工作噪聲應不（bú）大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不（bú）大於95%;
9. 原（yuán）水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的概念
就是利用電解（jiě）原理在某些金屬表麵上鍍上一薄層其它金屬或合（hé）金的過程。電鍍時，鍍層（céng）金屬（shǔ）做陽極，被氧化成陽離子（zǐ）進入電鍍液；待鍍的（de）金屬製品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層（céng）。為排除其它陽離（lí）子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層（céng）金屬陽離子的溶液做電鍍（dù）液，以保持鍍層金屬陽離子（zǐ）的濃度不變。電鍍的目的是在基材（cái）上（shàng）鍍上金屬鍍層，改變基材表（biǎo）麵（miàn）性質或（huò）尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐蝕性（xìng）(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止（zhǐ）磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美（měi）觀。
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